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三塩化ホウ素BCL3ガス、半導体製造用電子ガスプラズマエッチング

三塩化ホウ素BCL3ガス、半導体製造用電子ガスプラズマエッチング

    • Boron Trichloride BCL3 Gas , Electronic Gases For Semiconductor Manufacturing Plasma Etching
    • Boron Trichloride BCL3 Gas , Electronic Gases For Semiconductor Manufacturing Plasma Etching
  • Boron Trichloride BCL3 Gas , Electronic Gases For Semiconductor Manufacturing Plasma Etching

    商品の詳細:

    起源の場所: 中国
    ブランド名: TYHJ
    証明: ISO Certificate
    モデル番号: BCL3

    お支払配送条件:

    最小注文数量: 版 200 本
    価格: negotiable
    パッケージの詳細: 1. 25Kg BCL3で満ちる40Ltrシリンダー。2. 50Kg BCL3で満ちる47Lシリンダー。
    受渡し時間: 沈殿物のレシートの後の15-30仕事日
    支払条件: L/C、T/T、D/A、D/P、ウェスタン・ユニオン
    供給の能力: 1 ヶ月あたりの 10000KG
    連絡先
    詳細製品概要
    CAS番号: 10294-35-1 EINECSに第: 233-658-4
    国連いいえ。: UN1741 純度: 99.999%
    点のクラス: 2.3 外観: 無色、腐食性の、液化ガス
    ハイライト:

    semiconductor gas

    ,

    electric gas

    電子ガスホウ素トリクロライドBCL3ガス半導体製造用プラズマエッチングCAS 10294-35-1ドットクラス2.3

    仕様

    CAS番号:10294-35-1

    EINECS番号:233-658-4

    国連番号:UN1741

    純度:99.999%

    ドットクラス:2.3

    外観:無色、腐食性、液化ガス

    グレードスタンダード:電子グレード

    仕様 99.999%
    CO2 <2ppm
    CO <0.5ppm
    塩素 1ppm未満
    窒素 <4ppm
    酸素 1ppm未満
    THC <0.5ppm

    典型的なアプリケーション

    エッチング:

    BCl 3は、半導体製造におけるプラズマエッチングにも使用される。 このガスは、揮発性BOClx化合物の形成によって金属酸化物をエッチングする。

    BCL3BCL3

    包装&配送

    小包のサイズ 40Ltrシリンダー 47Ltrシリンダー ISO TANK
    充填内容/ Cyl 25Kgs 50Kgs /
    20'Containerに読み込まれたQTY 240 Cyls 200 Cyls
    全容積 6トン 10Tons
    シリンダー風袋質量 50Kgs 55Kgs
    バルブ DISS-634 / CGA 660
      三塩化ホウ素(BCl3)_MSDS.pdf

      連絡先の詳細
      Chengdu Taiyu Industrial Gases Co., Ltd

      コンタクトパーソン: Millet

      私達に直接お問い合わせを送信
      Chengdu Taiyu Industrial Gases Co., Ltd
      部屋1104の第4建物、段階IIのShuduの中心の建物、ハイテクな地帯、成都都市、中国
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